Thứ Tư, 28 tháng 9, 2011

Tráng rửav

                 TráĐể có thêm thông tin về các dịch vụ nâng ngựcnâng mũivá màng trinhthẩm mỹ vùng kínthẩm mỹ môithẩm mỹ mắtthẩm mỹ khuôn mặtthu hẹp âm đạo…  và được tư vấn cụ thể về các dịch vụ xin quý khách hàng liên hệ tại đây.
-      Chất rửa: xylen.
-      Chất súc lại: n-butylacetate.
Đối với photoresist dương:
-      Chất rửa: NaOH, KOH, nonionic sol (TMAH).
-      Chất súc lại: nước.
-      Tỷ lệ hòa tan của vùng chiếu và vùng không được chiếu là 4:1. Do đó photoresist dương nhạy hơn photoresist âm.
Phương pháp rửa:
-      Phương pháp nhúng: đưa trực tiếp dung dịch rửa.
-      Phương pháp phun.
Mục đích: làm cho photoresist cứng hoàn toàn, đồng thời tách toàn bộ dung môi ra khỏi resist.
Điều kiện sấy:
-      Nhiệt độ: 49-54oC.
-      Thời gian: 30 phút.
Có hai loại ăn mòn:
-      Ăn mòn ướt : sử dụng đối với chi tiết có độ phân giải > 3mm
-      Ăn mòn khô : sử dụng đối với chi tiết có độ phân giải < 3mm
Là phương pháp đơn giản nhất và kinh tế nhất để hòa tan các resist chưa đóng rắn. Phương pháp này được sử dụng nhiều nhất trong việc sản xuất màn hình TFT LCD, và công suất tạo ra lớn hơn phương pháp ăn mòn khô.
Dụng cụ bao gồm:
-      1 thùng chứa hóa chất để hòa tan resist chưa đóng rắn.
-      1 mặt nạ. Mặt nạ này có tác dụng giữ hình ảnh đúng theo yêu cầu. Mặt nạ không tan trong dung môi hoặc tan chậm hơn rất nhiều so với phần resist chưa đóng rắn.
Nhược điểm của phương pháp:
-      Ăn mòn đều không có định hướng nên dễ ăn mòn vào lớp oxit bên dưới lớp photoresist. Do đó tạo hình ảnh không đúng với yêu cầu.
-      Hóa chất sử dụng chủ yếu là các acid nên phải quan tâm đến tác động đến môi trường.
Ưu điểm: ăn mòn có định hướng.
Có thể chia thành các loại sau:
-      Dùng ion hoạt hóa (RIE): có 1 dòng khí được đưa vào buồng từ phía trên và được hút ra dưới đáy bằng bơm. Khí sử dụng tùy thuộc vào tính chất của photoresist. Những khí này được sử dụng để tạo ra plasma bằng nguồn điện có tần số radio 13.56 MHz và vài trăm wat. Plasma được tạo thành khi khí bị ion hóa. Khi đó, vòng kẹp tấm chắn sáng bắt đầu tích điện âm, trong khi khí tích điện dương. Sự khác biệt về điện thế làm cho ion khí di chuyển đến vòng kẹp và nguyên liệu và xảy ra phản ứng hóa học. Các ion dương cũng gây ăn mòn. Phần ăn mòn hóa học tạo ra sự ăn mòn đẳng hướng còn ăn mòn tự nhiên sẽ có tác dụng ăn mòn có định hướng. Các thông số cần kiểm soát trong phương pháp này là: áp suất, lưu lượng khí và công suất RF.
rie etch
Hình 2.7: Cấu tạo buồn ăn mòn ion hóa [10]

-      Dùng hơi để ăn mòn. Tuy nhiên phương pháp này chỉ dùng để ăn mòn silic. Phương pháp này tương tự như phương pháp dùng ion, khác biệt duy nhất là các ion không phản ứng với nguyên liệu được ăn mòn.
Màn hình LCD được rửa và sấy khô. Dùng dung dịch kiềm hoặc khí để hòa tan photoresist và dùng một lớp khác để chuyển hình ảnh lên màn hình.
-      Sử dụng hóa chất nóng hòa tan photoresist.
-      Các hóa chất thường sử dùng: acid sulfuric, acid phosphoric và hydrogen peroxide.
Ưu điểm: tách photoresist nhanh.
Nhược điểm: giá thành hóa chất cao, tác động đến môi trường.
Phương pháp này không độc hại do sử dụng khí oxy plasma để oxy hóa hoàn toàn photoresist nên còn được gọi là tro hóa photoresist. Lượng khí tạo thành sẽ được tách bằng bơm chân không.
2CxHy (resist) + (3x+y)/2O2 ® xCO + xCO2 + yH2O
Phương pháp tốt nhất là sử dụng hơi isopropyl alcohol có độ tinh khiết >70% được gia nhiệt từ 80-100oC. Khi đó photoresist được tách ra và tạo bề mặt sạch.
In flexo là phương pháp in được sử dụng để in lên các bao bì bằng nhựa, cacton và nhiều loại vật liệu khác. Khác với in phun hay in laze, in flexo cần có khuôn được khắc sẵn rồi mới lắp vào máy in vì thế, in flexo chỉ được sử dụng để in một mẫu nào đó với số lượng lớn chứ không đa năng như quá trình in phun và in laze.
1.                 Đặc điểm chung của khuôn in flexo
Để có thêm thông tin về các dịch vụ nâng ngựcnâng mũivá màng trinhthẩm mỹ vùng kínthẩm mỹ môithẩm mỹ mắtthẩm mỹ khuôn mặtthu hẹp âm đạo…  và được tư vấn cụ thể về các dịch vụ xin quý khách hàng liên hệ tại đây.
Khuôn in Flexo thuộc nhóm in cao, chúng có phần tử in cùng nằm trên  một mặt phẳng và nằm cao hơn phần tử không in. Phần tử không in  (phần tử trắng) nằm thấp hơn, mức độ thấp hơn phụ thuộc vào cách in và chế tạo khuôn in. Hình ảnh trên khuôn là ngược gương với tờ in nếu in trực tiếp và cùng chiều với tờ in nếu in gián tiếp. Khuôn in được chế tạo trên những vật liệu mềm như cao su hoặc hợp chất polyme mềm dưới dạng những miếng rời hoặc nguyên tấm liền. Độ dày của bản từ 0,8 đến 8 mm, độ cứng của bản từ 40 đến 60 shore. Độ cao của phần tử in so với phần tử không in là 10 đến 20% tại vùng chữ, tại vùng nền và gạch sọc bằng 20% độ dày của bản.
Hợp chất photoplyme dùng chế tạo khuôn in  phải có tính nhạy sáng vừa phải, có một số tính chất thoả mãn các điều kiện chế tạo khuôn in và in của các phương pháp in cụ thể, đó là khả năng: chịu được tác dụng của các hoá chất khi  gia công trong chế tạo khuôn in và trong quá trình in, có khả  năng bắt và nhả mực tốt, bền với mực in và dung dịch làm ẩm trong in offset ướt, chịu được lực cơ học trong quá trình in, không gây độc hại cho người sản xuất và môi trường.can dien tu

Không có nhận xét nào:

Đăng nhận xét