Photopolyme được ứng dụng rất phổ biến trong các ngành công nghệ cao như: Tạo ảnh quang, bản mạch in, quang khắc, thiết bị hiển thị, bộ nhớ quang, phép chụp ảnh laze, muối bicromat gelatin, tạo màng quang…
I. Quang khắc [1]Để có thêm thông tin về các dịch vụ nâng ngực, nâng mũi, vá màng trinh, thẩm mỹ vùng kín, thẩm mỹ môi, thẩm mỹ mắt, thẩm mỹ khuôn mặt, thu hẹp âm đạo… và được tư vấn cụ thể về các dịch vụ xin quý khách hàng liên hệ tại đây.
Quang khắc là cơ sở của công nghệ chế tạo các thiết bị kích thước nanomet ngay từ khi kỹ thuật này được phát minh vào khoảng 50 năm trước. Về cơ bản, tất cả các máy tính và các con chip của các hệ thống viễn thông đều được chế tạo bởi công nghệ này.[1]
Hình 2.1: Chip điện tử [6]
Là một dạng đặc biệt của polymer cảm quang, chúng được ứng dụng rộng rãi trong lĩnh vực quang khắc, có khả năng tạo hình ảnh nổi trên sản phẩm và giúp chống lại quá trình khắc ăn mòn trên bề mặt sản phẩm.
Hình 2.2: Bảng photoresist [8]
Polymer cảm quang nói chung và photoresist nói riêng gồm có 2 loại: loại tạo ảnh dương và loại tạo ảnh âm.
Loại tạo ảnh dương là hệ gồm các polyme có trọng lượng phân tử lớn, dưới tác dụng của các bức xạ sẽ chuyển sang các polyme hoặc các monome có trọng lượng phân tử thấp hơn, có khả năng hoà tan tốt hơn trong dung môi thích hợp. Hay polyme ban đầu (có chứa các nhóm chức nhạy quang) là loại khó hòa tan, dưới tác dụng của bức xạ sẽ hiệu chỉnh nhóm chức để tan dễ hơn.
Loại tạo ảnh âm là các hệ mà ban đầu gồm là hệ dễ hoà tan, sau chuyển sang dạng khó hoà tan do thực hiện các phản ứng quang polyme hoá tạo mạng ngang hay được hiệu chỉnh nhóm chức.
Quang khắc là kỹ thuật sử dụng trong công nghệ bán dẫn và công nghệ vật liệu nhằm tạo ra các chi tiết của vật liệu và linh kiện với hình dạng và kích thước xác định bằng cách sử dụng bức xạ ánh sáng làm biến đổi các chất cảm quang phủ trên bề mặt để tạo ra hình ảnh cần tạo. Phương pháp này được sử dụng phổ biến trong công nghiệp bán dẫn và vi điện tử, nhưng không cho phép tạo các chi tiết nhỏ do hạn chế của nhiễu xạ ánh sáng nên được gọi là quang khắc micro.
Một hệ quang khắc bao gồm một nguồn phát tia tử ngoại, chùm tia tử ngoại này được khuếch đại rồi sau đó chiếu qua một mặt nạ. Mặt nạ là một tấm chắn sáng được in trên đó các chi tiết cần tạo (che sáng) để che không cho ánh sáng chiếu vào vùng cảm quang, tạo ra hình ảnh của chi tiết cần tạo trên cảm quang biến đổi. Sau khi chiếu qua mặt nạ, bóng của chùm sáng sẽ có hình dạng của chi tiết cần tạo, sau đó nó được hội tụ trên bề mặt phiến đã phủ cảm quang nhờ một hệ thấu kính hội tụ.
Mặt nạ che sáng
Là một tấm thủy tinh có hình ảnh. Hình ảnh được tạo bằng cách ăn mòn có chọn lọc lớp crom mỏng (khoảng 70 nm) phủ trên tấm thủy tinh tạo vùng tối và vùng sáng. Khi chiếu ánh sáng qua chỗ nào không có crom thì cho ánh sáng đi qua, chỗ nào có crom sẽ cản ánh sáng.
Hình 2.3: Cấu tạo mặt nạ che sáng [10]
Các giai đoạn cơ bản để tạo quang khắc:
- Chuẩn bị bề mặt.
- Phủ photoresist lên đế.
- Sấy sơ bộ.
- Chuyển hình ảnh từ mặt nạ lên photoresist.
- Rửa, tạo hình ảnh lên photoresist.
- Ăn mòn lớp oxit bên dưới photoresist và tách lớp photoresist.
Hình 2.4: Các giai đoạn tạo quang khĐể có thêm thông tin về các dịch vụ nâng ngực, nâng mũi, vá màng trinh, thẩm mỹ vùng kín, thẩm mỹ môi, thẩm mỹ mắt, thẩm mỹ khuôn mặt, thu hẹp âm đạo… và được tư vấn cụ thể về các dịch vụ xin quý khách hàng liên hệ tại đây.
Không có nhận xét nào:
Đăng nhận xét